삼성전자가 하반기 10나노 위탁생산(파운드리)을 앞둔 가운데 7나노부터 본격적으로 극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 노광장비를 사용한다. 적어도 10나노까지는 이머전(Immersion, 액침) 불화아르곤(ArF) 기술을 이용하고 1세대 LPE(Low Power Early) 공정부터 접목할 계획이다.
14일 관련 업계에 따르면 삼성전자는 EUV 장비를 7나노부터 본격화할 것으로 전해졌다. 이와 함께 이머전 ArF 장비도 당분간 함께 사용한다. 이는 10나노는 물론이고 초기 7나노까지 EUV 기술과 함께 사용하겠다는 의미다.
포토 리소그래피(Photo Lithography)라 부르는 노광(露光) 공정은 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 과정을 뜻한다. 세밀하게 회로를 그릴수록 원가절감이 가능하다. EUV 노광 장비는 빛 파장이 13.5nm로 짧아 회로 선폭이 10나노 미만인 반도체를 생산할 수 있으나 광원 에너지 부족 등의 문제로 상용화가 지연되고 있다.
이런 문제를 해결하기 위해 주요 반도체 업체는 이머전 ArF 장비로 회로 패턴을 두 번에 나눠 형성시키는 더블패터닝 혹은 쿼드러블패터닝 기술을 도입하고 있다. 다중 패터닝은 생산시간과 함께 원가가 늘어난다는 문제점을 가지고 있으나 그만큼 안정화된 양산 경험을 가지고 있다는 점에서 활용이 불가피하다.
삼성전자는 이머전 ArF 장비를 초기 7나노에서도 사용할 방침이다. 내부적으로는 EUV 장비를 본격적으로 도입할 경우 포토마스크의 수를 80장에서 60장으로 줄일 수 있을 것으로 예상하고 있다.
한 업계 관계자는 “삼성전자 10나노 공정은 LPE와 LPP가 동시에 이뤄질 것”이라며 “당장은 이머전 ArF 장비의 성능의 성능을 개선시켜나가면서 EUV 장비를 도입하는 방향이라고 봐야 한다”고 전했다.
<이수환 기자>shulee@insightsemicon.com
Copyright ⓒ 디지털데일리. 무단전재 및 재배포 금지
SKT 유심 해킹 여파…국방부, "장병 유심 교체 대책 마련"
2025-04-29 17:25:17[DD퇴근길] "바둑보다 어려워"…이세돌, '데블스플랜'서 보여줄 '묘수'는
2025-04-29 17:21:43[타임라인] SKT 해킹사고, 어떻게 인지했나…발견까지 29시간
2025-04-29 16:43:29유심 해킹 SKT 유영상 대표, 30일 국회 과방위 청문회 출석
2025-04-29 15:54:45SKT “수습 역량 총동원…5월 내 유심 SW 변경 시스템 개발”
2025-04-29 15:01:02“정부부처 보안에도 빨간불”...국정원, 전부처에 유심교체 공문
2025-04-29 14:43:51이해진 네이버 의장, 트럼프 주니어와 30일 만난다… AI 기술 협력 논의하나
2025-04-29 19:05:59카카오엔터, 美 신규 자회사 'KEG' 설립…글로벌 인재 채용 본격화
2025-04-29 18:31:541분기 역대 최대 실적 크래프톤, "배그 당기고, 인조이 밀고" (종합)
2025-04-29 18:31:41카카오게임즈, '오딘: 발할라 라이징' 글로벌 서비스 시작
2025-04-29 17:40:39IPX, ‘서울스프링페스타’ 참여…명동부터 타임스퀘어까지 라인프렌즈 알린다
2025-04-29 17:36:00게임산업 위기론 고조…조영기 게임산업협회장 역량 ‘시험대’
2025-04-29 17:32:41