램리서치, 식각 신기술 적용 장비 ‘센스아이’ 공개

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램리서치, 식각 신기술 적용 장비 ‘센스아이’ 공개

디지털데일리 발행일 2020-03-05 10:00:40

김도현

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[디지털데일리 김도현기자] 램리서치가 식각 신기술이 적용된 장비를 공개했다.

5일 램리서치는 새로운 플라즈마 식각 기술을 제공하는 장비인 ‘센스아이’ 플랫폼을 발표했다. 해당 제품은 반도체 제조사들이 확장성과 고급 기능을 갖출 수 있도록 개발됐다.

램리서치는 “기존 식각 장비가 차지하는 반도체 팹 공간을 절반으로 줄이면서 종횡비를 크게 높인 컴팩트한 고밀도 구조”라며 “독보적인 시스템 인텔리전스 기능을 갖추고 있다”고 설명했다.

센스아이는 반도체 장비 시장의 대표적인 식각 공정 제품으로 인정받는 ‘키요’와 ‘플렉스’ 프로세스 모듈에서 발전된 기술이 구현됐다. 균일도와 식각 프로파일 제어를 지속 향상하는데 필요한 핵심 식각 성능을 제공했다. 덕분에 수율은 최대화, 웨이퍼 비용은 최소화할 수 있다.

장비 인텔리전스 기술도 탑재됐다. 장비 스스로 자가 인식이 가능, 반도체 제조사들이 데이터를 모으고 분석해 패턴과 경향을 확인할 수 있다. 아울러 장비가 차지하는 반도체 팹의 면적인 식각 산출 밀도를 50% 넘게 개선했다.

램리서치 바히드 바헤디 수석 부사장은 “센스아이는 램리서치 기술 로드맵을 확장해 고객의 차세대 요건을 충족할 뿐 아니라 고객의 비용 조정 문제를 해결할 수 있다”고 강조했다.

한편 램리서치는 지난달 미국 새너제이에서 열린 국제광공학회(SPIE) 컨퍼런스에서 ‘건식 레지스트’ 신기술을 소개했다고 밝혔다. 네덜란드 장비업체 ASML, 벨기에 반도체 연구소 IMEC과 공동 개발했다.

램리서치 등이 개발한 기술은 건식 레지스트를 사용한다. 웨이퍼에 바르는 습식 레지스트와 달리, 건식 레지스트는 증착 공정을 통해 박막을 형성한다. 주로 일본 업체들이 공급하는 EUV용 포토레지스트(PR·감광제)를 대체할 수 있는 방식이다. 신기술이 상용화되면, 일본의존도를 낮출 수 있을 전망이다.

<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr