어플라이드, 옥사이드 TFT용 PVD·PECVD 장비 출시

실시간
뉴스

디스플레이

어플라이드, 옥사이드 TFT용 PVD·PECVD 장비 출시

디지털데일리 발행일 2013-10-17 15:06:27

한주엽 기자

URL복사

[디지털데일리 한주엽기자] 어플라이드머티어리얼즈는 초고해상도(UHD) 대형 액정표시장치(LCD) 및 유기발광다이오드(OLED) 디스플레이 제조에 필요한 메탈 옥사이드(금속 산화물, Metal Oxide) 기반 플라즈마화학증착(PECVD)과 물리기상증착(PVD) 장비를 선보인다고 17일 발표했다.

신제품 모델명은 AKT-PiVot 55K DT PVD, AKT-PiVot 25K DT PVD, AKT 55KS PECVD다. 메탈 옥사이드 기반 박막트랜지스터(TFT)는 기존 비정질실리콘(a-Si) 대비 전자 이동도가 빨라 고해상도 LCD 및 OLED 패널에 적용되고 있다.

어플라이드는 자사 PVD와 CVD 시스템이 균일한 성막 기술과 불량 입자 제어 기술을 제공해 디스플레이 패널 제조업체들의 높은 양산 수율을 확보하는 데 도움이 될 것이라고 설명했다.

알리 살레푸어 어플라이드머티어리얼즈 글로벌 서비스 상임 부사장은 “새로운 장비는 검증된 기술을 기반으로 제작됐다”며 “메탈 옥사이드 TFT 기술 구현을 통해 디스플레이 패널 업계의 개발 및 생산 계획을 가속화시킬 것”이라고 말했다.

그는 “균일한 성막, 불량 입자 제어, 회로 신뢰성 등의 문제를 해결하기 위해 고객과 긴밀하게 협력했다”며 “향후 지원 기판 크기를 확대해 나갈 계획”이라고 덧붙였다.

이날 어플라이드가 발표한 PVD 시스템 가운데 55K는 8세대(2200x2500mm), 25K는 6세대(1500x1850mm)용 장비다. 독자 기술인 ‘회전식 캐소드 배치 기술’을 확대 적용해 균일하고 결함이 적은 금속 전극 및 픽셀 전극, 메탈 옥사이드를 증착할 수 있다.

플라즈마 방향 제어 기술과 회전식 타겟은 기존의 평면 타겟의 제품과 비교해 불량 입자의 수를 현저하게 줄일 수 있다고 회사 측은 설명했다.

55KS PECVD 시스템은 8세대용 장비다. 이 장비는 향상된 품질의 새로운 실리콘 산화물(SiO2) 절연막을 메탈 옥사이드 TFT 에 증착함으로써 수소 불순물을 최소화하고, 트랜지스터의 장기 신뢰성을 개선해 디스플레이 성능을 최적화한다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr