[日수출규제 3년차②] 韓, 포토레지스트 국산 대체 `잰걸음`

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[日수출규제 3년차②] 韓, 포토레지스트 국산 대체 '잰걸음'

디지털데일리 발행일 2022-02-10 10:23:43

김도현

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- 동진쎄미켐·영창케미칼 등 R&D 활발

[디지털데일리 김도현 기자] 일본 수출규제 3대 품목의 내재화에 속도가 붙었다. 불화수소와 폴리이미드 대비 취약했던 포토레지스트(PR) 분야 성과가 눈에 띈다. 여전히 일본 의존도가 높지만 국산 비중이 확대되는 분위기다.

10일 업계에 따르면 영창케미칼은 불화아르곤 이머전(ArFi) PR을 개발 중이다. 연내 양산 평가가 이뤄질 전망이다.

PR은 반도체 노광 공정 핵심 소재다. 실리콘웨이퍼에 PR을 바르고 회로가 새겨진 포토마스크를 올려 빛을 쬐면 패턴이 형성된다. 크게 ▲불화크립톤(KrF·248nm) ▲불화아르곤(ArF·193nm) ▲극자외선(EUV·13.5nm)용으로 나뉜다. ArF의 경우 공기를 활용한 드라이와 액체를 사용하는 이머전 방식으로 나뉜다.

그동안 PR 시장은 일본 기업이 장악해왔다. 도쿄오카공업(TOK) 스미토모화학 JSR 등이 시장점유율 90% 이상을 차지했다. 수출규제 이후 국산화 필요성이 부각하면서 삼성전자와 SK하이닉스 등은 국내 협력사와 협업 빈도를 늘리고 있다.

영창케미칼은 ArF 드라이 PR 개발을 끝낸 상태로 다음 단계인 이머전 제품을 준비 중이다. 반도체 테스트베드를 구축한 나노종합기술원과 협업을 통해 이르면 내년 상용화에 나설 계획이다.

국내 PR 선두주자 동진쎄미켐은 일본 독점 제품 개발을 완료했다. 차세대 노광 기술 EUV용 PR이 대상이다. EUV 시대가 본격화한 상황에서 전용 PR을 생산하는 국내 업체가 없다는 점은 부정 요소였다. 기술 난도가 높아 일본 외 기업이 접근조차 어려웠던 탓이다. 동진쎄미켐은 “EUV PR 양산 적용을 앞두고 있다. 정확한 시점은 미정”이라고 말했다.

동진쎄미켐은 SK하이닉스에 이어 삼성전자에도 ArFi PR 납품을 성공한 바 있다. 삼성전자는 메모리 공장에서 동진쎄미켐 KrF PR 비중을 대폭 늘린 것으로 전해진다.

아울러 PR 보완재료도 준비 중이다. EUV용 PR 사용 시 노광 정밀도를 높이는 EUV 언더레이가 대표적이다. ArFi PR과 세트인 BARC는 일부 제공 중이다.

SK머티리얼즈퍼포먼스 역시 PR 사업을 강화하고 있다. ArF PR 개발을 끝내고 공급을 시작했다는 후문이다. 이머전용에 대해서도 고객사와 협의가 이뤄지고 있다.

전구체 제조업체 디엔에프는 건식 PR 상용화에 나선다. 기존 습식 대비 효율성이 높고 미세공정에 유리하다는 평가다. 초기 단계지만 양산화하면 시장 판도를 바꿀 상품으로 꼽힌다. 최근 켐트로닉스는 PR 원료인 프로필렌글리콜 메틸에테르 아세트산(PGMEA)을 초고순도(99.999%)로 생산하는 데 성공했다고 밝혔다.