SK하이닉스(대표 이석희)는 중국 우시에서 확장팹(C2F) 준공식을 개최했다고 18일 밝혔다. C2F는 기존 D램 생산라인인 C2를 확장한 것이다. SK하이닉스에 따르면 미세공정 전환에 따른 생산공간 부족 문제를 해결하기 위해 지난 2016년 생산라인 확장을 결정했다.
이날 행사에는 이 대표를 비롯해 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 강소성 부성장, 최영삼 상하이 총영사 등 500여명이 참석했다.
지난 2004년 SK하이닉스는 중국 장쑤성 우시시와 현지 공장 설립을 위한 계약을 체결했다. 이후 2006년 생산라인을 완공, D램 생산을 시작했다. 당시 건설된 C2는 SK하이닉스의 첫 300mm 팹이다.
하지만 공정 미세화로 인해 공정수가 늘고, 장비가 대형화되면서 공간이 부족해졌다. 이에 SK하이닉스는 지난 2017년 6월부터 이달까지 총 9500억원을 투입, 추가로 반도체 생산공간을 확보하게 된 것이다.
C2F는 건축면적 5만8000㎡의 단층 팹으로 기존 C2 공장과 비슷한 규모다. SK하이닉스는 C2F의 일부 클린룸 공사를 완료하고 장비를 입고해 D램 생산을 시작했다.
SK하이닉스 우시 팹 담당 강영수 전무는 “C2F는 기존 C2 공장과 ‘원 팹’으로 운영함으로써 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것”이라고 말했다.
<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr
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