[디지털데일리 한주엽기자] 삼성전자가 올해 시설투자에 약 24조원을 투입한다. 이는 지난해와 비슷한 수준이다.
삼성전자는 24일 “올해 시설투자 계획은 아직 확정되지 않았으나 전년과 유사한 수준이 예상된다”라며 “사업별로도 전년과 큰 변동이 없을 것”이라고 밝혔다.
삼성전자는 지난해 23조8000억원의 시설투자를 진행했다. 반도체 부문의 시설투자액은 12조6000억원이었다. 주로 낸드플래시 공장 건설과 D램 및 시스템반도체의 20나노급 공정전환에 비용이 투입됐다고 설명했다.
삼성디스플레이(DP)는 액정표시장치(LCD) 패널 공장 건설과 유기발광다이오드(OLED) 패널 라인 증설 등에 5조5000억원을 투자했다.
<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr
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