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[삼성전자컨콜] 중국 시안서 10나노급 낸드플래시 생산

[디지털데일리 한주엽기자] 삼성전자는 26일 오전 열린 2013년 2분기 실적 컨퍼런스 콜을 통해 “1분기 IR 때 올해 안으로 V낸드 샘플 나온다고 했는데, 생각보다 (개발) 진척이 좋다”라며 “조만간 좋은 소식을 드릴 수 있을 것 같다”라고 말했다.

회사 측은 “중국 시안 공장은 내년 상반기 가동이 목표인데, 그 일정을 앞당기기 위해 노력하고 있다”라며 “시안에선 10나노급에 해당되는 낸드플래시가 생산될 것”이라고 말했다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr
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