[디지털데일리 김도현 기자] 예스티가 ‘차세대 고압 어닐링 장비 개발’ 국책과제를 시작한다고 8일 발표했다.
예스티에 따르면 해당 설비 개발을 위한 실질 설계 단계에 돌입한다. 이를 기점으로 기존 글로벌 기업에 공급하기 위해 준비 중인 고압 어닐링 장비 상용화에 속도를 내겠다는 심산이다.
어닐링은 고압 수소·중수소를 통해 반도체 표면 결함을 제거해 고유전율(High-K) 절연막을 사용하는 반도체 소자 계면 특성을 개선하는 기술이다. 기존 어닐링은 낮은 압력에서 진행돼 이로 인한 수소 침투율 한계로 계면 결함 개선 효과가 저하되는 문제가 있었다. 이에 고압으로 관련 이슈를 최소화하려는 추세다.
예스티는 “차세대 어닐링 장비는 상용화를 전제로 장비를 사용할 수요 기업들도 참여할 예정”이라며 “장비 성능과 개발 사양 등을 설계에 반영해 개발 속도를 극대화할 수 있게 됐다”고 설명했다.
향후 예스티는 수요기업이 제시한 제품 성능과 사양을 최대한 반영해 설계를 진행할 계획이다. 포스텍, 한양대 연구진도 주요 기술진으로 참여한 상태다.
자체 개발한 고압 어닐링 장비의 경우 알파 테스트를 마치고 공정적용을 이전에 진행하는 베타 테스트를 앞두고 있다.
예스티는 “차세대 제품 개발 및 신속한 상용화를 위해 수요기업과 긴밀한 소통을 통해 요구사항을 최대한 반영할 계획”이라며 “수요기업 구매를 전제로 한 국책과제인 만큼 성공적인 과제 수행 시 공정적용과 확산에는 문제가 없을 것”이라고 강조했다.
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