KAIST, 최고 권위 반도체학회서 3년 연속 최다 논문 채택

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KAIST, 최고 권위 반도체학회서 3년 연속 최다 논문 채택

디지털데일리 발행일 2012-11-20 17:46:29

한주엽 기자

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[디지털데일리 한주엽기자] KAIST가 ‘국제고체회로학회(ISSCC)’에 3년 연속 최다 논문 채택이라는 성과를 냈다.

20일 KAIST는 올해 ISSCC에 제출한 논문 12편이 채택됐다고 밝혔다. 이는 미국의 인텔, MIT 대학 보다 많은 것으로 3년 연속 세계 정상 자리를 차지한 것이다.

ISSCC는 세계적 규모의 반도체 학술 대회다. 1954년 처음 설립돼 올해로 60회째를 맞이하고 있다. 이 학회에 논문이 채택되면 국제적으로 성과를 공인받는다. 연구 결과 유출을 우려하는 기업들이 ISSCC에 많은 논문을 제출하는 이유도 이 때문이다.

KAIST 측은 “지난 10년간 전 세계 대학 중 가장 많은 논문이 채택돼 설계 분야의 최강자임을 증명했다”고 설명했다.

채택된 논문 중에는 패치 치료 장치가 주목을 받았다. 기존 이온패치 치료 장치는 패치와 건전지로만 구성된 간단한 구조로 치료 효율성이 매우 떨어졌지만 이번 논문에서 제안한 이온패치는 패치 위에 스마트폰 시스템온칩(SoC)과 배터리, 외부조절장치가 모두 집적돼 있어 높은 효율로 이온 효과를 극대화할 수 있다. 무선통신 분야에선 인체매질 통신표준을 만족하는 세계 최초의 송수신기와 관련된 논문이 좋은 평가를 받았다.

이번 학회에는 총 629편의 논문이 제출됐고 그 가운데 209편이 최종 채택됐다. 미국이 72편으로 가장 많은 논문이 채택됐고 일본(30편), 한국(22편), 네덜란드(21편), 대만(20)이 그 뒤를 이었다.

ISSCC 2013 행사는 내년 2월 17일부터 21일가지 5일간 미국 샌프란시스코에서 개최된다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr