인텔, 20나노 낸드플래시 적용한 ‘인텔 SSD 335’ 시리즈 출시

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인텔, 20나노 낸드플래시 적용한 ‘인텔 SSD 335’ 시리즈 출시

디지털데일리 발행일 2012-10-30 15:40:08

이수환 기자

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[디지털데일리 이수환기자] 인텔(www.intel.com 대표 폴 오텔리니)은 30일 20나노 낸드플래시 공정을 적용한 ‘인텔 SSD 335’ 시리즈를 출시한다고 밝혔다.

이 제품은 기존 300 시리즈의 후속으로 용량은 240GB에 500MB/s(초) 연속읽기와 450MB/s 연속쓰기 속도를 제공한다. 인텔 SSD 335 시리즈는 인텔과 마이크론의 합작사인 ‘IMFT(IM Flash Technologies)’에서 개발한 20나노 낸드플래시를 채택한 첫 번째 솔리드스테이트드라이브(SSD)다.

지난 4월 발표된 20나노 IMFT 낸드플래시는 ‘평면 셀’ 구조를 사용했다. 평면 셀 구조는 첫 번째 하이케이 메탈게이트(HKMG) 스택을 통합해 기존 ‘낸드 플로팅 게이트 셀’ 스케일링 제약 문제를 해결했다.

인텔 비휘발성 메모리 솔루션 그룹의 롭 크루크 부사장 겸 총괄 매니저는 “인텔 SSD 335는 HKMG 셀 기술로 낸드 프로세스 스케일링 제약을 해결하고 최소 면적의 낸드 셀을 제공한다”며 “기술 제약을 넘어서는 프로세스 개선을 통해 SSD 기술 진보를 거듭해 나갈 것”이라고 밝혔다.

<이수환 기자>shulee@ddaily.co.kr