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美日, 2나노 반도체 개발 본격화…日, 연내 3조원 투자

- 일본, 2차 추경 반도체 예산 12조원 편성


[디지털데일리 윤상호 기자] 미국과 일본이 반도체 첨단공정 경쟁력 강화를 위한 협업을 구체화했다. 양국은 지난 8월 차세대 반도체 연구개발(R&D) 협력을 선언했다. 2025년 2나노미터(nm) 공정 상용화가 목표다. 일본 정부는 올해 제2차 추가경정예산에 이를 위한 예산 3조원을 편성했다.

6일(현지시각) 일본 닛케이아시아에 따르면 일본 정부는 치세대 반도체 R&D 예산 3500억엔(약 3조3600억원)을 제2차 추경에 포함했다.

미국과 일본은 지난 8월 미국 워싱턴D.C에서 ‘2+2 경제대화’를 열고 차세대 반도체 공동 개발을 합의했다. 2nm 미세공정 선제 개발이 핵심이다.

미세공정은 반도체 회로 선폭을 줄이는 기술을 통칭한다. 반도체 ▲성능 향상 ▲크기 축소 ▲에너지 소모량 절감을 위해 필요하다. 현재 미세공정은 한국 삼성전자 대만 TSMC가 이끌고 있다. 양사는 3nm 공정에 도달했다. 10nm 미만 미세공정이 가능한 회사도 이들뿐이다.

미국과 일본은 반도체 생태계 주도권 회복을 추진 중이다. 미국은 반도체 설계와 장비 일본은 반도체 장비와 소재에 강점을 갖고 있다. 제조는 대부분 한국과 대만이 담당한다. 한국과 대만에 치우친 제조 부문을 미국과 일본으로 돌리려는 중이다. 반도체 제조사를 유치하기 위한 지원 법률도 제정했다.

한편 일본은 이번 2차 추경에 반도체 일본 생산 기업 지원금 4500억엔(약 4조3200억원)과 반도체 소재 자립 및 다변화 예산 3700억엔(약 3조3300억원)도 넣었다. 2차 추경은 29조엔(약 278조3100억원) 규모로 예상된다. 반도체 관련 예산은 총 1조3000억엔(약 12조4800억원)이다. 일본은 오는 8일 국무회의에서 이번 추경을 의결하고 연내 임시국회를 열어 승인할 예정이다.
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