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디에이테크놀로지, 2차전지 장비 특허 2종 취득

- 기술 경쟁력 강화 지속

[디지털데일리 김도현 기자] 2차전지 장비업체 디에이테크놀로지가 기술 경쟁력을 지속 강화한다.

17일디 에이테크놀로지는 2차전지 관련 국내외 특허 2종을 취득했다고 밝혔다. 특허명은 ‘2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법’ ‘전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템’이다.

첫 번째 특허는 양극판과 음극판을 교대로 적층할 때 분리막을 양극판과 음극판으로 밀어서 지그재그 형태로 적층하는 방식이다. 이 과정에서 분리막 양측에 배열되는 양극판과 음극판의 간격, 분리막 하단을 상축으로 상승시키는 속도를 적절히 제어해 적층과정에서 발생할 수 있는 스크래치를 방지할 수 있다. 적층 속도는 기존 장비보다 향상했다.

두 번째 특허는 2차전지 셀의 전극판과 전지 부품을 지정된 복수 공정 위치로 분배하며 연속적으로 공급할 수 있는 장치다. 공정 진행 속도를 높이고 여러 공정 장비를 하나로 통합해 구성할 수 있다.

디에이테크놀로지는 이종욱 대표 선임 이후 신기술 개발 및 특허 취득에 힘을 쏟고 있다. 장 폭 셀 스태킹, 고속 NCM 장비 등을 개발한 바 있다. 고속 레이저 노칭 장비는 지난 10월 국내 글로벌 배터리 업체에 공급했다.

<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr
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