디에이테크놀로지, 노칭 기술 특허 취득

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디에이테크놀로지, 노칭 기술 특허 취득

디지털데일리 발행일 2020-09-17 17:16:20

김도현

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[디지털데일리 김도현기자] 디에이테크놀로지가 2차전지 기술력 강화를 이어간다.

17일 디에이테크놀로지(대표 이종욱)는 전극 레이저 노칭 공정용 패턴 지그 및 레이저 노칭 시스템에 관한 신규 특허를 취득했다고 밝혔다.

해당 시스템은 2차전지 전극을 연속 이송하면서 전극의 가장자리에 레이저를 지면과 수평하게 조사한다. 소정의 패턴으로 전극 탭을 가공하는 방식이다.

이번 특허 기술을 통해 공정 중에 발생하는 스크랩 및 분진을 하측으로 낙하해 제거할 수 있다. 전극 필름상에 레이저가 어긋나 전극 탭의 형상이 절삭 되지 않는 문제를 해결할 수 있게 된다.

디에이테크놀로지 관계자는 “기술 경쟁력 확보에 힘 쏟고 있다. 신규 기술을 통해 2차전지 설비 시장에서 입지를 강화할 수 있을 것”이라고 말했다.

한편 디에이테크놀로지는 지난 4일 150억원 규모의 제3자배정 유상증자를 결정했다. 조달된 자금을 통해 2차전지 설비 사업을 강화할 방침이다. 30억원은 시설 투자금, 50억원은 운영자금, 70억원은 타법인 증권 취득자금으로 사용할 계획이다.

<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr